Ausstattung

Materialsynthese

• Plasma-CVD und PVD-Beschichtungsanlagen
• Chemische und galvanische Abscheidungsprozesse
• Sol-Gel-Verfahren
• Hydrothermale Synthese
• Materialbehandlung mit YAG-Laser und CO₂-Laser

Chemische Analytik

• Emissionsspektroskopie
• Energie- bzw. wellenllängendispersive Analysesysteme (EDX bzw. WDX)
• Sekundärionenmassenspektroskopie (SIMS)
• Wasserstoff-, Kohlenstoff- und Schwefelanalyse
• Thermowaagen und Volumetrie

Werkstoff- und Systemeigentschaften

• Servohydraulische und elektromechanische Materialprüfsysteme (z.T. für Hochtemperatur- und Vakuumversuche)
• Labor für Hochfrequenzermüdungsprüfung
• Kriechapparaturen
• Nanoindentierung und tribologische Untersuchungsgeräte

Strukturuntersuchungen

• Rasterelektronenmikroskopie
• Transmissionselektronenmikroskopie
• Focused Ion Beam (FIB) mit hochauflösendem REM
• Rasterkraftmikroskop (AFM)
• Rastertunnelmikroskop (STM)
• Röntgendiffraktometer (XRD)
• Raster-Raman-Spektroskopie

Aktualisiert via XIMS am 29.11.2012 von W. Kramer